小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為150W直流電源，可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口，可以通入保護性氣體，若客戶需要通入混合氣體，可以聯系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。

名稱	小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜儀
特點	往復樣品臺，鍍膜更加均勻，高效 可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等 與同類設備相比，經過小型化設計，高度集成
技術參數	往復樣品臺： 尺寸 50*100mm， 往復速度 0~50mm/s 磁控靶槍： 2 英寸圓形平面靶, 濺射真空 10Pa～0.2Pa,  靶材厚度 建議2～5mm, 靶頭溫度 ≦65℃ 真空腔體：  約為Φ180mm × H 215mm;高純石英; 觀察窗口 全向透明; 開啟方式 頂蓋拆卸式 直流電源： 功率 *大150W ，數量 1 分子泵系統  前級泵： 旋片泵 VRD-4 、抽速 1.1L/S、 極限真空 5*10-1Pa 分子泵：分子泵、抽速600L/S、 額定轉速 24000rpm、 極限真空 5*10-5Pa、                         振動值 ≦0.1um、 啟動時間 ≦4.5min、 停機時間 <7min、 冷卻方式 水冷+風冷 水冷機： 冷卻水溫度 ≦37℃， 冷卻水流速 10L/min 供電電壓：AC220V 50Hz